《自畫像2》

2023

四曲屏風、黑箔、紙、墨、木|約260 × 170 cm

郭汶瑄《自畫像2》正面完整作品照,2023
郭汶瑄《自畫像2》正面完整作品照,2023
郭汶瑄《自畫像2》斜角結構照,2023
郭汶瑄《自畫像2》斜角結構照,2023
郭汶瑄《自畫像2》背面完整作品照,2023
郭汶瑄《自畫像2》背面完整作品照,2023
郭汶瑄《自畫像2》軍旅口號與黑箔表面細節,2023
郭汶瑄《自畫像2》軍旅口號與黑箔表面細節,2023
郭汶瑄《自畫像2》展場尺度照,2023
郭汶瑄《自畫像2》展場尺度照,2023

四曲屏風正面覆以黑箔,背面反覆書寫軍旅口號。語句在持續重複中逐漸失去原本的傳達功能,轉化為制度、時間與勞動的密度。

作品源自藝術家十五年的軍旅經驗。屏風既形成遮蔽與區隔,也以可折疊的結構保留身體、文字與制度之間的關係。

過程影像 ↗